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vatvalve半導體65.3 控壓擺閥65340-JAAH 65.3 控壓擺閥的尺寸為 DN 100-350 mm (4“ - 14“)，采用鋁或硬質(zhì)陽極氧化鋁制成，帶有 ISO-F 和 JIS 標準法蘭連接。可集成定制法蘭，也可作為直接安裝選項。標準密封材料為氟橡膠，并且可根據(jù)要求使用其他材料。控制器可采用特殊控制算法（自適應、固定 PID、上游、軟抽）?？刂破魃系母鞣N標準端口可通過個人計算

vatvalve控壓擺閥65340-JAAF 65.3 控壓擺閥已經(jīng)安裝在數(shù)百個各種工藝條件下的要求苛刻的應用中，證明了其可靠性和性能。65.3控壓擺閥還是改造現(xiàn)有系統(tǒng)的理想之選。 65.3 控壓擺閥的尺寸為 DN 100-350 mm (4“ - 14“)，采用鋁或硬質(zhì)陽極氧化鋁制成，帶有 ISO-F 和 JIS 標準法蘭連接。可集成定制法蘭，也可作為直接安裝選項。標準密封材料為氟橡膠，并且可

vatvalve瑞士進口65.3 控壓擺閥65340-JAAE 可優(yōu)化半導體與顯示器系統(tǒng)中的下游壓力控制和隔離 最大限度地提高生產(chǎn)率 65.3 控壓擺閥設定了下游壓力控制和隔離的新標準。該系列控壓擺閥專為半導體和顯示器生產(chǎn)系統(tǒng)而設計，可在較寬的流導范圍內(nèi)提供可控性。65.3 控壓擺閥配備帶有集成位置控制的電機，可提供改進功能。

vatvalve高真空控制閘閥半導體專用64240-UEAG 64.2 高真空控制閘閥采用 VATLOCK 技術，可提供可靠的密封，同時不會在閥板密封處產(chǎn)生任何摩擦。閥板可充當節(jié)流元件，改變閥門開度的流導特性。設備上壓力控制器可計算所需的閥板位置以達到規(guī)定的設定點壓力。步進電機進行驅(qū)動，同時編碼器監(jiān)控閥板位置。這樣可確?？焖贉蚀_地控制過程壓力。位于關閉位置的專用 VATLOCK 鎖定機制能夠確保在

vatvalve高真空控制閘閥瑞士進口64240-PEAG 適用于高循環(huán)真空控制和隔離 64.2 高真空控制閘閥設計用于在濺射或蝕刻工藝等高循環(huán)真空工藝中進行可靠精確的控制和隔離。該系列滿足耐用性、模塊性和可維護性的標準要求，并且特別注重長正常運行時間和低購置成本。

vatvalve高真空控制閘閥64240-CEHG 適用于高循環(huán)真空控制和隔離 高真空控制閘閥設計用于在濺射或蝕刻工藝等高循環(huán)真空工藝中進行可靠精確的控制和隔離

vatvalve高真空角閥26420-KE01 角閥的關鍵性能指標是可靠性與可變性。26.4 高真空角閥系列兼具可靠性和可變性。

vatvalve超高真空閥閥門12136-JA03 真空和氣體流的高精度控制和隔離在半導體制造中是至關重要的。

vatvalve楔形高真空閘閥09134-KE14 采用楔形設計的高真空閘閥已經(jīng)安裝在數(shù)千個各種工藝條件下的要求苛刻的應用中，證明了其可靠性。特別是在次金圓廠應用中，它已經(jīng)成為真空泵隔離的標準解決方案。該閘閥擁有多種設計選項，可以輕易集成到任何應用中。

vatvalve采用楔形設計的高真空閘閥09134-KE08 由于楔形設計，此高真空閘閥具有自清潔功能 閥門可在壓差高達 1 bar 時開啟 適用于廣泛應用的靈活配置選項